（通讯员 曹馨怡 ）12月8日中午，物理与电子科学学院于线上举办“光刻技术简介”主题精勤讲堂，2020级刘汝娟担任主讲人。

刘汝娟从“光刻技术的核心原理”、“光刻技术的主要类型”和“光刻技术前景展望”三个方面进行讲解。核心原理又以“徒步光刻胶”、“曝光”、“显影”、“刻蚀”、“去除光刻胶”五个方面详细讲解；主要类型又有“电子束”、“X-射线”、“纳米压印”三大光刻技术，并且讲述了各自的优劣势及发展前景。
     此次精勤讲堂旨在让同学们更加深入了解有关光刻技术知识，进一步激发同学们对光刻技术的兴趣。

2022级、2021级部分同学参加此次活动。

                                                                                                            一审：曹馨怡

                                                                                                            二审：戴一鸣

                                                                                                            三审：罗瑞霞